氣體分子在真空、放電等特殊場合下產(chǎn)生的物質(zhì)，真空離子清洗 等離子清洗/刻蝕產(chǎn)生等離子體的裝置是在密封容器中設(shè)置兩個(gè)電極形成電磁場，用真空泵實(shí)現(xiàn)一定的真空度，隨著氣體越來越稀薄，分子間距及分子或郭的自由運(yùn)動距離也越來越長，受磁場作用，發(fā)生碰撞而形成等離子體，同時(shí)會發(fā)生輝光，等離子體在電磁場內(nèi)空間運(yùn)動，并轟擊被處理物體表面，達(dá)到去除表面油污以及表面氧化物，灰化表面有機(jī)物，以及其它化學(xué)物質(zhì)，從而達(dá)到表面處理、清洗和刻蝕效果，經(jīng)過等離子處理工藝可以實(shí)現(xiàn)有選擇的表面改性。

　真空等離子清洗機(jī)特點(diǎn):

　　1.環(huán)保技術(shù)：等離子體作用過程是氣- 固相干式反應(yīng) ,不消耗水資源、無需添加化學(xué)藥劑,對環(huán)境無污染。

　　2.廣適性：不分處理對象的基材類型,均可進(jìn)行處理,如金屬、半導(dǎo)體、氧化物和大多數(shù)高分子材料都能很好地處理；

　　3.溫度低：接近常溫，特別適于高分子材料，比電暈和火焰方法有較長保存時(shí)間和較高表面張力。

　　4.功能強(qiáng)：僅涉及高分子材料淺表面（10 -1000A ），可在保持材料自身特性的同時(shí)，賦予其一種或多種新的功能；

　　5.低成本：裝置簡單，易操作維修，可連續(xù)運(yùn)行，往往幾瓶氣體就可以代替數(shù)千公斤清洗液,因此清洗成本會大大低于濕法清洗。

　　6.全過程可控工藝：所有參數(shù)可由PLC設(shè)置和數(shù)據(jù)記錄，進(jìn)行質(zhì)量控制。

　　7.處理物幾何形狀無限制：大或小，簡單或復(fù)雜，部件或紡織品，均可處理。